第164章 浸入式光刻技术【1 / 2】

兜兜转转一圈下来，赵烨发觉再搞出三微米技术之前，他必须还要脚踏实地的搞出一个中间阶段来。

直接上三微米，目前面临的问题太多了。不是说硬上不行，而是就算做出来了，在应用上一系列的设备根本就支持不了。

这就好比火车提速，不是说你的火车发动机功率足够就可以了，你要想跑得快，从车厢设计，转向架，车轮，钢轨，弯道，线路，等等等等，都要符合提速后的要求才行。这些东西不支持，你光有一个发动机是不够的。

第二代光刻技术如今已经很成熟了。

半自动化的操作，让成品率保持在了一个能够接受的范围内。如今赵烨看着实验室里的这台设备，想的是一个投机取巧的办法。说白了，就是把现在的干法蚀刻，变成湿法蚀刻。

简单来讲，就是把要照射的硅晶片，浸到水里。

水是种透明的液体，纯净的水，在一定温度下，它的折射率是固定的。那么把硅晶片放到水里，在紫外光照射到硅晶片之前，要先经过水的折射。

只要控制好掩模和光照的方向，就能在现有的设备基础上，把制程工艺提高半步。

这样一来，之前制程，就能进步到5微米上下了。

有了这个工艺方法，赵烨就可以在以后的技术升级中，占有一定的优势。

设想是好的，不过想要实现这个技术，难度也很大。

比如水是液体，在工作台晃动的时候，水是会跟着动的，而且在工作台停下来的时候，水是不会立刻就停止运动的。

这样一来，如果光线照射下来，就会因为水的不均匀，似的折射角度发生极大的偏差。

所以这个时候，就要求工作台不能移动，或者是说不能过多移动。

还有一种方法，是把液体的盛在一个密闭的容器里，这样就能避免液体的波动造成的误差。

不过这样一来，也有它的弊端，一是操作不便，效率低下。再者就是用于密封的容器，本身就可以看成一组镜片。他的纯净度和折射率同样是不规整的。

假如可以做出纯净度和折射率都很完美的玻璃，那直接做透镜组就好啦，干嘛还用来做容器呢？这就是多此一举了。

用水，本身就是利用了纯净的水容易加工这一特性，再给它加个盖子，那才是脱了裤子放屁，多此一举呢。

赵烨一个人蹲在实验室里，连着好多天都在看着这台设备发呆。

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